可对金属、矿物、半导体、陶瓷、生物、高分子、複合材料、催化剂等材料进行微观形貌、晶体结构、晶体缺陷、晶粒晶向及成份分析。
基本介绍
- 中文名:场发射透射电子显微镜
- 最高放大倍数::1.5M
- 能量解析度::0.7eV
- 最小束班尺寸::0.5nm EELS

2.利用微区电子衍射、会聚束电子衍射及元素分析可对小至0.5nm尺度的物质进行结构和成分分析,因而特别实用于普通透射电镜难以分析的微细析出相,界面和畴等极小区域内成分、结构的研究。 3.利用所配置的GIF系统不但可分析物质的组成元素而且可分析组成元素的价态。
仪器类别: 03040701 /仪器仪表 /光学仪器 /电子光学及离子光学仪器 /透射式电子显微镜
指标信息: 具有高相干性、高亮度的场发射枪 最大倾转角:X=±35°,Y=±30° 加速电压:200kV、160kV、100kV、80kV 点解析度:0.23nm EDS元素範围:B5~U92 晶格解析度:0.102nm EDS能量解析度:138eV
附属档案信息: 1.Gatan公司的GIF系统 4.普通单、双倾台 2.Link公司的EDS系统(超薄窗) 5.铍单、双倾台 3.日本电子株式会社的STEM系统 ,