在具有分裂的体细胞中，DNA複製发生在无丝分裂之前或有丝分裂的间期（S期）；在配子形成时则主要发生在减数第一次分裂之前的间期。这种複製就称为间期複製。

DNA複製是半保留複製。双螺旋DNA链解旋解链，每条DNA为模板，按硷基互补原则合成子代DNA。

複製子——DNA链上有多个複製起点，相邻两个複製起点间构成的複製单位。

複製过程非常複杂，涉及几十种蛋白质因子和酶，主要有DNA解旋酶、DNA解链蛋白、引物酶、DNA聚合酶、DNA连线酶等。具体过程如下：

①解旋、打开模板：在複製起点处在ATP供能、解旋酶的作用下，部分DNA双螺旋链鬆弛，解旋为二条平行双链。在DNA解链蛋白作用下解开的两条单链成两条母链（模板链）。

②合成互补子链：以上述解开的两条多脱氧核苷酸链为模板，在聚合酶的作用下，以周围环境中游离的脱氧核苷酸为原料，按照硷基互补配对原则，合成两条与母链互补的子链。

细节：聚合酶只能在多核苷酸链3'－OH上加脱氧核苷酸,所以新链只能按5'→3'方向进行,并且需要引物(一种约10个核苷酸的RNA,由引发酶以亲代DNA为模板合成)提供3'－OH的多核苷酸链。从起点开始，以亲代3'→5'方向为模板可以连续合成5'→3'方向的子链，称先导链。但以亲代5'→3'方向为模板不能连续合成3'→5'方向的子链。而是在引物上按5'→3'方向延伸约100-200个核苷酸的DNA片段，称冈崎片段。冈崎片段合成后引物被除去，在DNA聚合酶的作用下，补上空缺又在DNA连线酶作用下连线起来，称滞后链（后随链）。DNA複製方式称半不连续複製。DNA複製的精度极高，一般每合成109-1010个核苷酸对才出现一个误差。且错误以及损伤可通过修复机制修复。

③子母链结合形成新DNA分子：在DNA聚合酶的作用下，随着解旋过程的进行，新合成的子链不断地延伸，同时每条子链与其对应的母链互相盘绕成螺旋结构，複製是半保留複製，解旋完即複製完，形成新的DNA分子，这样一个DNA分子就形成两个完全相同的DNA分子。

DNA複製的时间是：在具有分裂的体细胞中，DNA複製发生在无丝分裂之前或有丝分裂间期（S期）；在配子形成时则主要发生在减数第一次分裂之前的间期。

DNA複製时必需条件是：四种脱氧核苷酸为原料，能量（ATP）和一系列的酶。缺少其中任何一种，DNA複製都无法进行。